，每一家半导体行业都有着或多或少的光刻机，用韩国三星集团的话来说“假如没有了光刻胶的支持，那就和破铜烂铁没区别了，
而当今的世界最好的芯片已经是能做到三纳米了，能做到这个程度是不可能离开高质量光刻胶的支持的，如果我们没高质量的光刻胶，是能够影响到我们自己研发的芯片在高端市场是竞争力度的减弱。
并且光刻胶质量的好坏能够直接的影响到芯片质量的好坏，因此我们的祖国为我们的芯片事业，进口的都是日本的好产品。
如果他们停止给我们断供，自然会受一定的影响，但是这样的一种情况大概率不会发生，毕竟如今我国早已不是曾经的中国，在国际上有一定的话语权，这种出口进口的关系都是互利共生的关系，我们暂时需要日本的光刻胶，而日本也需要出口来保持好本国的经济。
双方少了谁都不行，但是这对我们来说仅只是暂时性的，因为我们近代以来就知道，所有的事情不要指望别人，一定要手中握有技术才能够走的长久。
所以我国科研人员一直在努力攻克光刻胶，并且已经有了进展，就像我们的祖国的基建一样，从无到有一步一步走过来，取代日本研发光刻胶的那一天我觉得很快就会到来。
最近，我们国产的光刻胶有了重大的进程突破，武汉太子微光电子科技有限公司推出的T150最新研发的光刻胶产品，已经通过了半导体工艺的验证并且它的配方是由我们的祖国全部自主设计的，这可有望开创新的局面。
T150是一个KrF光刻胶，这个类目在我们中国其实早早就已经是实现了自主化的，但由太子微他们自己研发的这个全新国产光刻胶对比的可是流通量很大的陶氏UV1610 。
看着其实好像并不是大的突破甚至说是没突破，但是我上面可是说到，配方是全部自主设计的，这可是很重要的，这条消息的爆出很可能意味着，将来我们的祖国为了研发光刻胶这样的产品不需要再去进口相关的产品了。
我们自己生产的光刻胶，它的极限分辨率是在一百二十nm，与进口的光刻胶来比较，我们自己的光刻胶稳定性高，留膜率好还是很优秀的。
虽然现在对于高端产品的生产，还是依赖进口原材料，但是我相信很快，我们的祖国一定也有能力来研发属于我们自己的配方与产品。
然而在我们高速进步的时候，总有美国这个“老鼠屎”从中作梗，试图我国各方面的发展，尤其是对我们的祖国的半导体行业进行严厉的，但我们丝毫不怕，他们这点小伎俩我们早就习惯了。
无视他们的作梗，深入自身发展，吸取各种技术经验，来突破自身，现在我们的祖国，已经能够初步实现全自主研发光刻胶了，相信不管是光刻胶，还是芯片，以及别的方面，我们都能够有一骑绝尘的时刻！
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